前回と同じCMP後洗浄用組成物に関する特許明細書の一部を取り上げて訳を検討したいと思います。 検討箇所 【原文】The invention further provides a method for polishing ...

前回の記事で虫垂炎になってようやく回復したと書きましたが、治ったと思った矢先の先週末に再発してしまい、予定では今頃終わっていたはずのCMP後洗浄用組成物に関する特許がまだ全体の1/4程度しか進んでいません。 原因が特定で...

先週末は会社員の私にとっては貴重な三連休でしたが、初っ端から虫垂炎になってしまいました。 最初は少し右下腹部がチクチクする程度でしたが、日ごとに痛みが増して歩くのも座っているのも苦痛になり、熱も出てきたので病院に行きまし...

先日から対訳学習の２件目として取り組んでいた研磨パッドに関する特許明細書の確認が一通り終わりました。今回はその中で、自分が初見でイメージがつかめず、また公開訳でも気になる箇所があった部分を取り上げて、訳を検討してみたいと...

前回までは対訳学習の１件目としてCMP組成物に関する特許明細書を使って、 ・原文の英語を1文読んで頭の中で大体の訳を作る　→　その後、公開訳・AI訳を確認 ということを繰り返して学習を進めました。 現在は２件目として、1...

前回に引き続き特許明細書の対訳学習をしています。前回の記事では、原文の意図が不明確な場合にコメントをつける、という点を意識できていませんでした。実務では何でも自分で判断せずに確認するというコミュニケーション能力も必要なの...

前回はLSI多層配線のCMPプロセスについて書きました。関連してCMP用の研磨スラリーに関する特許を読んでみたので、その内容をまとめます。 特許請求の範囲 特許請求の範囲は次のようになっています。 【請求項１】  樹脂を...