しばらくCMP関係の特許を読んでいましたが、先日からリソグラフィ関連の特許を読み始めました。今回は、ペリクル接着剤残留物の除去方法に関する特許明細書の一部を取り上げて訳文を考えてみたいと思います。 検討箇所 【原文】Du...

前回と同じCMP後洗浄用組成物に関する特許明細書の一部を取り上げて訳を検討したいと思います。 検討箇所 【原文】The invention further provides a method for polishing ...

前回の記事で虫垂炎になってようやく回復したと書きましたが、治ったと思った矢先の先週末に再発してしまい、予定では今頃終わっていたはずのCMP後洗浄用組成物に関する特許がまだ全体の1/4程度しか進んでいません。 原因が特定で...